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離子濺射儀
冷卻循環(huán)水機
濺射耗材配件

JS-1600小型離子濺射儀
JS-600M小型磁控濺射儀
金靶濺射靶材
LX-S10-BLP1KW小功率冷水機
LX-S12-BHP1.2KW冷卻循環(huán)水機
LX-S65-BHP6.5KW冷卻循環(huán)水機
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LX-S20-BHP2KW冷卻循環(huán)水機

關(guān)于我們

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南京舜儀實驗設(shè)備有限公司是由南京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司變更而來，擁有“舜儀”和“SAINTINS”等注冊商標(biāo)。公司致力于等離子體相關(guān)產(chǎn)品的開發(fā)，目前主要生產(chǎn)小型離子濺射和小型磁控濺射，獲得客戶廣泛認(rèn)可。隨著對行業(yè)的不斷深入，期待能夠推出更多質(zhì)優(yōu)價廉的設(shè)備，為我們的儀器行業(yè)添磚加瓦。我們追求的目標(biāo)是為用戶提供滿意的產(chǎn)品及服務(wù)，以重諾守信，嚴(yán)謹(jǐn)求實，目光遠大的行為為準(zhǔn)則?！八粗罚瑑x之質(zhì)”，對于新老客戶，我們將一如既往,恪守“服務(wù)至上”的承諾，與用戶保持長期的合作，為用戶提供放心的，滿意的的產(chǎn)品。我們將憑借高效、高質(zhì)的服務(wù)，高信任度的企業(yè)形象與廣大用戶共同發(fā)展！由于（北京和同創(chuàng)業(yè)科技有限責(zé)任公司）的業(yè)務(wù)調(diào)整，原有的產(chǎn)品將逐漸由（南京舜儀實驗設(shè)備有限公司）承接，所有服務(wù)和承諾不變。

公司簡介

聯(lián)系我們

技術(shù)文章

Technical articles

2025
6-17

冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、光電器件制造等領(lǐng)域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點，并能夠在不加熱基材...
2025
5-21

桌面型小型離子濺射儀的設(shè)計特點詳細介紹
桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進工具，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)涂層、表面分析等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)通過利用離子束轟擊靶材，使靶...
2024
12-16

貴金屬靶材蒸發(fā)料加工蒸發(fā)薄膜的沉積與控制
貴金屬靶材蒸發(fā)料加工技術(shù)作為一種重要的薄膜制備技術(shù)，在多個行業(yè)中得到了廣泛應(yīng)用。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，蒸發(fā)加工的精度和效率不斷提高，新的蒸發(fā)方法和設(shè)備層出不窮，貴...
2024
11-18

光纖鍍膜小型離子濺射儀適合實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種用于精確鍍膜技術(shù)的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、材料科學(xué)等領(lǐng)域。其主要功能是通過離子濺射技術(shù)將薄膜材料沉積到光纖表面，以改善其光學(xué)性能...
2024
10-21

低溫濺射小型磁控濺射儀使用時的注意要點
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種在材料科學(xué)和表面工程領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的設(shè)備，主要用于制備薄膜、涂層以及納米結(jié)構(gòu)。工作原理基于磁控濺射技術(shù)。具體來說，當(dāng)真空腔室內(nèi)注入一定...
2024
9-14

手套箱適用離子濺射儀與傳統(tǒng)離子濺射設(shè)備相比有哪些特點？
手套箱適用離子濺射儀是一種結(jié)合了手套箱技術(shù)的離子濺射設(shè)備。其核心原理是利用高能粒子轟擊靶材，使靶材表面的原子或分子獲得足夠的能量并脫離靶材，隨后在基片上沉積形成...
2024
8-20

冷濺射小型磁控濺射儀可在消費品上添加耐磨、裝飾性的涂層
冷濺射小型磁控濺射儀是一種先進的薄膜沉積設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在各種基材上制備高質(zhì)量、均勻的薄膜。這種技術(shù)因其低溫、高效率和出色的膜層控制能力而被廣泛應(yīng)用于材料...
2024
7-17

薄膜制備小型磁控濺射儀在半導(dǎo)體器件的制造中的應(yīng)用
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種用于在各種基材上沉積薄膜材料的設(shè)備。它基于磁控濺射技術(shù)，該技術(shù)利用磁場控制等離子體中的電子運動，從而增加等離子體的密度和濺射效率。磁...

推薦產(chǎn)品

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